«роль транспортной науки и образования в реализации пяти институциональных реформ», посвященной



жүктеу 15,03 Mb.
Pdf просмотр
бет124/220
Дата13.02.2022
өлшемі15,03 Mb.
#35913
1   ...   120   121   122   123   124   125   126   127   ...   220
respub mejdu kon

 

 

Оразымбетова  А.К.

  –  ст.  преподаватель,  Казахская  академия  транспорта  и 

коммуникаций им. М.Тынышпаева (г. Алматы, Казахстан)



 

Каирбекова  А. 

–  студент,  Казахская  академия  транспорта  и  коммуникаций                     

им. М.Тынышпаева (г. Алматы, Казахстан)



 

 

ТЕХНОЛОГИЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОПТИЧЕСКИХ ВОЛОКОН НОВОГО 

ПОКОЛЕНИЯ

 

 

Методы изготовления оптических волокон с малыми потерями можно разделить на 

две  большие  группы:  традиционные  стекольные  (метод  двойного  тигля  и  метод 

разделения  фаз)  и  новые  методы  (основанные  на  процессе  химического  парафазного 

осаждения  (CVD  -  Chemical  Vapor  Deposition)).  Традиционные  стекольные  методы  не 

обеспечивают необходимого уровня чистоты материалов, и изготовленные с их помощью 

оптические  волокна  обладают  слишком  большими  потерями  (1000…100  дБ/км).  Новые 

методы  позволяют  создавать  материалы  чрезвычайно  высокой  чистоты  (CVD  процесс 

применяется  и  в  полупроводниковой  промышленности),  и  изготовленные  с  их  помощью 

оптические волокна обладают предельно малыми потерями (~ 0.2 дБ/км на 

 = 1550 нм).  



 

В  новых  методах  производство  волокон  разделяется  на  две  основные  стадии: 

изготовление  заготовки  и  вытяжка  волокна  из  заготовки.  Для  вытяжки  волокон 

используется  практически  одинаковая  технология  и  оборудование,  и  все  различия  в 

методах  изготовления  волокон  проявляются  только  на  стадии  изготовления  заготовки. 

Эти  различия  обусловлены  в  основном  тем,  что  для  массового  производства  волокон 

необходимы  заготовки  большого  размера.  Изготавливать  их,  учитывая  относительно 

небольшие скорости процесса химического парафазного осаждения, достаточно сложно. 



 

Рассмотрим типичный размер и вес заготовки, исходя из длины отрезка волокна (до 

250  км),  который  наматывается  на  раздаточную  катушку  (длина  волокон  на 

транспортировочных  катушках  50  км  и  меньше).  Диаметр  кварцевой  оболочки  волокна 

равен  125  мкм,  а  плотность  кварцевого  стекла  2.2  г/см

3

.  Кварцевое  стекло  в  отрезке 



волокна длиной 250 км занимает объем 3125 см

3

 и весит 6875 г. [1]. 



 

Заготовка естественно должна немного больше (её еще надо закрепить в установке 

для  вытяжки).  Положим  для  оценки,  что  она  весит  7  кг.  При  длине  1  м  диаметр  такой 

заготовки будет равен примерно 6.3 см (рисунок 1). Для справки: самая большая заготовка 

(изготовленная  методом  VAD  –  Vapor  Axial  Deposition)  весит  около  80  кг  (длина  2  м, 

диаметр 15 см), а общий вес всех заготовок, учитывая, что в линии связи уложено около 

100  миллионов  километров  волокон,  составляет  около  трех  тысяч  тонн.  Скорость  же 

вытяжки достигает  1.2 км/мин и, соответственно, 250 км  волокна можно  вытянуть за 3.5 

часа [2]. 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 



Рисунок 1 – Размеры заготовок для телекоммуникационных волокон.

 

 

 

2



 

 

 



 

334 


 

 

«РОЛЬ ТРАНСПОРТНОЙ НАУКИ И ОБРАЗОВАНИЯ В РЕАЛИЗАЦИИ ПЯТИ ИНСТИТУЦИОНАЛЬНЫХ 



РЕФОРМ», ПОСВЯЩЕННОЙ ПЛАНУ НАЦИИ  «100 КОНКРЕТНЫХ ШАГОВ» 

__________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________

________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________ 

 

___________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________



___________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________ 

а) Заготовка  весом в 7 кг, из которой можно вытянуть 250 км волокна за 3,5 часа.



 

б)  Самая  большая  заготовка  (изготовленная  методом  VAD)  весом  в  80  кг.  Из  неё  можно 

вытянуть 3 000 км волокна.

 

Время,  затрачиваемое  на  изготовление  заготовок,  как  правило,  велико  и  ограничено  в 

основном низкой скоростью осаждения слоев кварцевого стекла 

 

 

t = М/ v


ос

 = (


D

2



з

/4) L


з

/v



ос

,    


 

 

 



 

 (1)


 

 

где  М  =  (

D

2



з

/4)  L


з

  -  масса  осажденного  стекла  (D



з

  –  диаметр  заготовки,  L

з

  –  длина 



заготовки, 

 = 2.2 г/см



3

 – плотность стекла), v

ос

 – скорость осаждения слоев. 



 

В  различных  вариантах  CVD  процессов  скорость  осаждения  слоев  изменяется  в 

достаточно  широких  пределах  от  0.5  г/мин  до  6  г/мин.  Для  того  чтобы  изготовить 

рассмотренную  нами  выше  заготовку  массой  в  7  кг,  даже  при  самой  высокой  скорости 

осаждения ( ~ 6 г/мин) потребуется весьма значительное время (~ 20 часов). Если скорость 

осаждения  будет  заметно  ниже,  то  изготовить  такую  большую  заготовку  только  путем 

осаждения  нереально.  В  этом  случае  используют  комбинированный  метод.  Сердцевину 

заготовки из сверхчистого кварцевого стекла изготавливают с помощью CVD процесса, а 

затем  на  неё  надевают  кварцевую  трубку  (жакетируют)  или  каким-либо  другим  путем 

осаждают слой кварцевого стекла. 



 

В 

настоящее 



время 

при 


производстве 

телекоммуникационных 

волокон 

применяются в три основные варианта CVD процесса: 



 

- внутреннее парафазное осаждение (IVD – Inside Vapor Deposition), его часто обозначают 

как  MCVD  -  Modified  Chemical  Vapor  Deposition  –  модифицированное  химическое 

парафазное осаждение. 



 

- внешнее парафазное осаждение (OVD – Outside Vapor Deposition).



 

- осевое парафазное осаждение (VAD – Vapor Axial Deposition).



 

Далее мы рассмотрим кратко все эти варианты, но вначале опишем СVD процесс, с 

которого началась разработка кварцевых оптических волокон. В нем уже содержались все 

принципиальные решения, обеспечившие успех новым методам изготовления оптических 

волокон с малыми потерями [3]. 

 

CVD процесс, разработанный впервые в компании Corning. 



 

Впервые  CVD  процесс  для  производства  оптических  волокон  применил  Дональд 

Кек  в  компании  Corning.  С  помощью  этого  процесса  в  конце  1960-х  годов  ему  удалось 

получить волокна с рекордно малыми потерями (около 20 дБ/км). Это был прорыв, так как 

после  преодоления  барьера  в  20  дБ/км  волоконно-оптическая  связь  становилась 

экономически целесообразной. После этого многие компании по всему миру включились 

в разработку телекоммуникационных волокон.

 

Вариант  CVD  процесса,  который  использовала  компания  Corning,  в  дальнейшем  стали 

называть  “внутренним”.  В  нем  в  качестве  кварцевой  подложки  использовалась  опорная 

трубка, на внутреннюю поверхность которой осаждались слои стеклообразующего окисла 

SiO

2

  и  легирующего  окисла  GeO



2

,  образовывавшиеся  в  результате  гидролиза  в  пламени. 

Для этого в горелку подавали смесь тетрахлорида кремния (SiСl

4

) и легирующего хлорида 



(GeСl

4

) с кислородом O



2

 и горючим газом (рисунок 2) [4]. 



 

 

 

 

 

 

 

 

Рисунок 2 – Схема процесса внутреннего химического парафазного осаждения, примененного в 



компании Corning при изготовлении заготовок оптического волокна

 


жүктеу 15,03 Mb.

Достарыңызбен бөлісу:
1   ...   120   121   122   123   124   125   126   127   ...   220




©g.engime.org 2024
әкімшілігінің қараңыз

    Басты бет
рсетілетін қызмет
халықаралық қаржы
Астана халықаралық
қызмет регламенті
бекіту туралы
туралы ережені
орталығы туралы
субсидиялау мемлекеттік
кеңес туралы
ніндегі кеңес
орталығын басқару
қаржы орталығын
қаржы орталығы
құрамын бекіту
неркәсіптік кешен
міндетті құпия
болуына ерікті
тексерілу мемлекеттік
медициналық тексерілу
құпия медициналық
ерікті анонимді
Бастауыш тәлім
қатысуға жолдамалар
қызметшілері арасындағы
академиялық демалыс
алушыларға академиялық
білім алушыларға
ұйымдарында білім
туралы хабарландыру
конкурс туралы
мемлекеттік қызметшілері
мемлекеттік әкімшілік
органдардың мемлекеттік
мемлекеттік органдардың
барлық мемлекеттік
арналған барлық
орналасуға арналған
лауазымына орналасуға
әкімшілік лауазымына
инфекцияның болуына
жәрдемдесудің белсенді
шараларына қатысуға
саласындағы дайындаушы
ленген қосылған
шегінде бюджетке
салығы шегінде
есептелген қосылған
ұйымдарға есептелген
дайындаушы ұйымдарға
кешен саласындағы
сомасын субсидиялау