Оразымбетова А.К.
– ст. преподаватель, Казахская академия транспорта и
коммуникаций им. М.Тынышпаева (г. Алматы, Казахстан)
Каирбекова А.
– студент, Казахская академия транспорта и коммуникаций
им. М.Тынышпаева (г. Алматы, Казахстан)
ТЕХНОЛОГИЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОПТИЧЕСКИХ ВОЛОКОН НОВОГО
ПОКОЛЕНИЯ
Методы изготовления оптических волокон с малыми потерями можно разделить на
две большие группы: традиционные стекольные (метод двойного тигля и метод
разделения фаз) и новые методы (основанные на процессе химического парафазного
осаждения (CVD - Chemical Vapor Deposition)). Традиционные стекольные методы не
обеспечивают необходимого уровня чистоты материалов, и изготовленные с их помощью
оптические волокна обладают слишком большими потерями (1000…100 дБ/км). Новые
методы позволяют создавать материалы чрезвычайно высокой чистоты (CVD процесс
применяется и в полупроводниковой промышленности), и изготовленные с их помощью
оптические волокна обладают предельно малыми потерями (~ 0.2 дБ/км на
= 1550 нм).
В новых методах производство волокон разделяется на две основные стадии:
изготовление заготовки и вытяжка волокна из заготовки. Для вытяжки волокон
используется практически одинаковая технология и оборудование, и все различия в
методах изготовления волокон проявляются только на стадии изготовления заготовки.
Эти различия обусловлены в основном тем, что для массового производства волокон
необходимы заготовки большого размера. Изготавливать их, учитывая относительно
небольшие скорости процесса химического парафазного осаждения, достаточно сложно.
Рассмотрим типичный размер и вес заготовки, исходя из длины отрезка волокна (до
250 км), который наматывается на раздаточную катушку (длина волокон на
транспортировочных катушках 50 км и меньше). Диаметр кварцевой оболочки волокна
равен 125 мкм, а плотность кварцевого стекла 2.2 г/см
3
. Кварцевое стекло в отрезке
волокна длиной 250 км занимает объем 3125 см
3
и весит 6875 г. [1].
Заготовка естественно должна немного больше (её еще надо закрепить в установке
для вытяжки). Положим для оценки, что она весит 7 кг. При длине 1 м диаметр такой
заготовки будет равен примерно 6.3 см (рисунок 1). Для справки: самая большая заготовка
(изготовленная методом VAD – Vapor Axial Deposition) весит около 80 кг (длина 2 м,
диаметр 15 см), а общий вес всех заготовок, учитывая, что в линии связи уложено около
100 миллионов километров волокон, составляет около трех тысяч тонн. Скорость же
вытяжки достигает 1.2 км/мин и, соответственно, 250 км волокна можно вытянуть за 3.5
часа [2].
Рисунок 1 – Размеры заготовок для телекоммуникационных волокон.
2
334
«РОЛЬ ТРАНСПОРТНОЙ НАУКИ И ОБРАЗОВАНИЯ В РЕАЛИЗАЦИИ ПЯТИ ИНСТИТУЦИОНАЛЬНЫХ
РЕФОРМ», ПОСВЯЩЕННОЙ ПЛАНУ НАЦИИ «100 КОНКРЕТНЫХ ШАГОВ»
__________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________
________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________
___________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________
___________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________
а) Заготовка весом в 7 кг, из которой можно вытянуть 250 км волокна за 3,5 часа.
б) Самая большая заготовка (изготовленная методом VAD) весом в 80 кг. Из неё можно
вытянуть 3 000 км волокна.
Время, затрачиваемое на изготовление заготовок, как правило, велико и ограничено в
основном низкой скоростью осаждения слоев кварцевого стекла
t = М/ v
ос
= (
D
2
з
/4) L
з
/v
ос
,
(1)
где М = (
D
2
з
/4) L
з
- масса осажденного стекла (D
з
– диаметр заготовки, L
з
– длина
заготовки,
= 2.2 г/см
3
– плотность стекла), v
ос
– скорость осаждения слоев.
В различных вариантах CVD процессов скорость осаждения слоев изменяется в
достаточно широких пределах от 0.5 г/мин до 6 г/мин. Для того чтобы изготовить
рассмотренную нами выше заготовку массой в 7 кг, даже при самой высокой скорости
осаждения ( ~ 6 г/мин) потребуется весьма значительное время (~ 20 часов). Если скорость
осаждения будет заметно ниже, то изготовить такую большую заготовку только путем
осаждения нереально. В этом случае используют комбинированный метод. Сердцевину
заготовки из сверхчистого кварцевого стекла изготавливают с помощью CVD процесса, а
затем на неё надевают кварцевую трубку (жакетируют) или каким-либо другим путем
осаждают слой кварцевого стекла.
В
настоящее
время
при
производстве
телекоммуникационных
волокон
применяются в три основные варианта CVD процесса:
- внутреннее парафазное осаждение (IVD – Inside Vapor Deposition), его часто обозначают
как MCVD - Modified Chemical Vapor Deposition – модифицированное химическое
парафазное осаждение.
- внешнее парафазное осаждение (OVD – Outside Vapor Deposition).
- осевое парафазное осаждение (VAD – Vapor Axial Deposition).
Далее мы рассмотрим кратко все эти варианты, но вначале опишем СVD процесс, с
которого началась разработка кварцевых оптических волокон. В нем уже содержались все
принципиальные решения, обеспечившие успех новым методам изготовления оптических
волокон с малыми потерями [3].
CVD процесс, разработанный впервые в компании Corning.
Впервые CVD процесс для производства оптических волокон применил Дональд
Кек в компании Corning. С помощью этого процесса в конце 1960-х годов ему удалось
получить волокна с рекордно малыми потерями (около 20 дБ/км). Это был прорыв, так как
после преодоления барьера в 20 дБ/км волоконно-оптическая связь становилась
экономически целесообразной. После этого многие компании по всему миру включились
в разработку телекоммуникационных волокон.
Вариант CVD процесса, который использовала компания Corning, в дальнейшем стали
называть “внутренним”. В нем в качестве кварцевой подложки использовалась опорная
трубка, на внутреннюю поверхность которой осаждались слои стеклообразующего окисла
SiO
2
и легирующего окисла GeO
2
, образовывавшиеся в результате гидролиза в пламени.
Для этого в горелку подавали смесь тетрахлорида кремния (SiСl
4
) и легирующего хлорида
(GeСl
4
) с кислородом O
2
и горючим газом (рисунок 2) [4].
Рисунок 2 – Схема процесса внутреннего химического парафазного осаждения, примененного в
компании Corning при изготовлении заготовок оптического волокна
Достарыңызбен бөлісу: |